礦漿液位計概述：
礦漿液位計是80G調(diào)頻雷達式物位測量儀表，測量距離可達30米。天線被進一步優(yōu)化處理，新型快速的微處理器可以進行更高速率的信號分析處理，使得儀表可以用于高溫高壓等環(huán)境液體的測量。
礦漿液位計原理：
礦漿液位計的通用原理為雷達在罐頂發(fā)射電磁波，電磁波碰到介質(zhì)反射后被雷達接收，接收信號與發(fā)射信號之間的頻率差 δ f 與介質(zhì)表面的距離 R 成一定比例關(guān)系： R= C （速度） *δ f （頻率差） /2/ K （ 調(diào)頻斜率）。因為光速 C和調(diào)頻斜率 K 已知，因此估算出頻率差 δ f ， 便可得到雷達安裝位置料面的距離 R ，再通過已知的罐體總高，減去雷達到料面的空間距離（簡稱空高），得出料位的高度。
礦漿液位計實物圖：
 
礦漿液位計參數(shù)：
• 應(yīng) 用： 固體顆粒、粉塵、液體 ( 適用于大量程、高粉塵、蒸汽凝結(jié)、攪拌、狹窄安裝空間）
• 頻率范圍： 80GHz + 吹掃（或不帶吹掃）
• 測量范圍： 0-30米，0-60米，0-120米
•精 度： ±0.7mm
•介質(zhì)溫度： -40...250℃
• 過程壓力： -0.1...4.0Mpa
•過程連接： 螺紋、法蘭
• 防爆等級： Exia II CT6；Exd II CT6
•防護等級： IP67
•信號輸出： 4...20mA/HART（兩線/四線）， RS485/Modbus
礦漿液位計特點：
• 采用高達76-81GHz的發(fā)射頻率
• 高頻率與信噪比，是低介電常數(shù)介質(zhì)的*佳選擇
• 波束角小，能量集中，具有更強抗干擾能力，大大提高了測量精度與可靠性
• 測量盲區(qū)更小，對于小罐測量也會取得優(yōu)異效果
• 波長更短，對于小顆粒介質(zhì)與傾斜的介質(zhì)表面的物位測量效果更好
• 測量靈敏、刷新速度快、天線尺寸小、安裝簡便、牢固耐用、免維護
• 非接觸式測量，無磨損，無污染，可測量液體，固體介質(zhì)的物位
• 幾乎不受溫度、壓力、水蒸汽、泡沫、粉塵等復雜工況的影響
• 采用兩線制回路供電的技術(shù)，供電電壓和輸出信號通過一根兩芯電纜傳輸，節(jié)省成本
礦漿液位計安裝要求
儀表在安裝時避免安裝在入料口的上方，盡量避開各種影響信號的物體，如攪拌槳等
在極端復雜的工況下，以雷達安裝點為中心，半徑20cm的區(qū)域內(nèi)沒有任何障礙物，儀表即可正常工作。
 
礦漿液位計應(yīng)用：
應(yīng)用的行業(yè) 可應(yīng)用的工況
• 化工與石化 • 電力 • 中間料倉 • 儲倉
• 鋼鐵及冶金 • 礦產(chǎn) • 料斗 • 儲罐
• 造紙及紙漿 • 水及污水 • 過程罐 • 攪拌罐
• 食品與飲料 • 制藥 • 其他
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